光刻技术是半导体工业的关键过程，利用ASML的极紫外光（EUV）扫描仪制造纳米级芯片。该技术通过光照将电路图案转印到硅片上，决定晶体管的大小和效率。ASML的EUV扫描仪以13.5nm波长推动摩尔定律，支持AI和5G等技术的发展。尽管面临高成本和复杂性，光刻技术的前景依然乐观。