日本科学家发明了一种大道至简的EUV光刻技术，通过简化工具解决了光学像差和光传输的挑战，降低了芯片生产成本。新系统只使用两个反射镜，能够让超过10%的初始EUV能量到达晶圆，功耗大幅降低，不需要复杂的冷却系统。该技术已通过光学模拟软件验证，并已申请专利。日本冲绳科学技术大学院大学认为这是解决全球挑战的重要一步。