马斯克宣布Terafab芯片工厂将采用自由电子激光(FEL)技术制造EUV光源,替代ASML的锡滴方案。FEL效率高、功率超四倍,可同时供多台光刻机,降低成本。xLight公司获资助研发,计划2028年出原型。此举绕过ASML垄断,应对AI算力需求,但工程风险待验证。
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