Imec成功采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔

Imec成功采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔

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Imec首次在300毫米晶圆上成功应用EUV光刻技术制造固态纳米孔,解决了变异性和集成问题。该技术可用于生物传感和基因组学,纳米孔尺寸可达10纳米,未来有望实现更小孔径。

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