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Imec成功采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔
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原文中文，约300字，阅读约需1分钟。
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内容提要
Imec首次在300毫米晶圆上成功应用EUV光刻技术制造固态纳米孔，解决了变异性和集成问题。该技术可用于生物传感和基因组学，纳米孔尺寸可达10纳米，未来有望实现更小孔径。
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关键要点
- Imec首次在300毫米晶圆上成功应用EUV光刻技术制造固态纳米孔。
- 固态纳米孔技术面临变异性和集成难题，未能实现大规模生产。
- 该技术可用于生物传感、基因组学和蛋白质组学领域。
- 纳米孔尺寸可达约10纳米，且在整个晶圆上具有高度均匀性。
- 未来有潜力实现小于5纳米孔径，随着工艺集成技术的改进，有望取得更大突破。
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