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内容提要
尼康的浸没式光刻机降价后仍无人问津，主要因其套刻精度无法与ASML匹配。尽管尼康计划开发新平台以提升精度，但市场前景依然严峻。中国国产光刻机也面临类似挑战。
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关键要点
- 尼康的浸没式光刻机降价后仍无人问津，主要因其套刻精度无法与ASML匹配。
- 套刻精度是光刻机的关键问题，尼康的机器在对准时存在困难，导致良率损失。
- 尼康计划开发新平台以提升与ASML的匹配能力，重新设计投影镜头和晶圆载物台。
- 如果匹配成功，晶圆厂可能会重新进行对比测试，但仍需解决匹配组的问题。
- 中国国产光刻机面临类似挑战，SMEE的产品性能不及ASML，且市场需求有限。
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延伸问答
尼康的光刻机降价后为何仍无人问津？
因为尼康的光刻机套刻精度无法与ASML匹配，导致市场需求低迷。
尼康计划如何提升光刻机的套刻精度？
尼康计划开发新平台，重新设计投影镜头和晶圆载物台，以提升与ASML的匹配能力。
光刻机的套刻精度为何如此重要？
套刻精度是光刻机的关键问题，影响良率，差零点几个纳米可能导致数十亿美元的损失。
中国国产光刻机面临哪些挑战？
中国国产光刻机如SMEE的产品性能不及ASML，且市场需求有限，面临匹配精度问题。
尼康的新光刻机平台能否成功？
成功与否取决于能否解决与ASML的匹配问题，市场前景仍然严峻。
光刻机的匹配精度如何影响生产？
匹配精度影响良率，厂商需将机器分组使用，避免良率损失。
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