本文探讨了基于水平集的逆向光刻技术在深度学习框架下的应用，提出了高效的掩膜优化方案，显著提升了印刷性能并减少了计算时间。同时，研究了机器学习在光刻中的应用，推动了光刻技术的进步。
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