神经刻印:使用 “实 2 虚” 学习的光刻模拟器,弥合计算光学中的设计到制造差距

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内容提要

本研究利用元表面技术对薄膜光学进行光学特性的灵活操控,提出了一种替代优化框架来开发适用于天文高对比度成像的两种旋涡相位面具。通过计算智能技术进行优化,有效地将所需的模拟次数减少了 75%。

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