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神经刻印：使用 “实 2 虚” 学习的光刻模拟器，弥合计算光学中的设计到制造差距
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原文中文，约300字，阅读约需1分钟。
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内容提要
本研究利用元表面技术对薄膜光学进行光学特性的灵活操控，提出了一种替代优化框架来开发适用于天文高对比度成像的两种旋涡相位面具。通过计算智能技术进行优化，有效地将所需的模拟次数减少了 75%。
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关键要点
- 本研究利用元表面技术对薄膜光学进行光学特性的灵活操控。
- 提出了一种替代优化框架，开发适用于天文高对比度成像的两种旋涡相位面具。
- 几何特征通过计算智能技术进行优化。
- 引入数据高效的进化优化设置，解决传统方法的不足。
- 使用深度神经网络作为高度精确和高效的替代模型。
- 采用健壮的粒子群进化优化方案操作光子器件的几何参数进行优化。
- 优化了两种设计方案的性能，模拟次数减少了75%。
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