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Watermark Removal: Eliminating Watermarks in Large Language Models
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原文英文，约100词，阅读约需1分钟。
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内容提要
本研究提出了De-mark框架，通过随机查询策略有效去除语言模型中的n-gram水印，并评估其强度。实验表明，De-mark在流行语言模型上表现出色，对未来内容生成有重要影响。
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关键要点
- 本研究提出了De-mark框架，解决了语言模型中水印技术的稳健性不足的问题。
- De-mark框架采用随机选择探测的查询策略，有效去除基于n-gram的水印并评估其强度。
- 实验结果表明，De-mark在流行语言模型上展现了高效且有效的水印去除能力。
- De-mark框架对未来的内容生成具有重要影响。
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