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SK海力士宣布引进业界首款量产型High NA EUV设备
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原文中文，约600字，阅读约需2分钟。
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内容提要
SK海力士在利川M16工厂引进首款量产型高数值孔径极紫外光刻机，旨在提升半导体产品性能与生产效率，增加晶体管密度，简化光刻工艺，加速下一代存储器开发，巩固市场地位。
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关键要点
- SK海力士在利川M16工厂引进首款量产型高数值孔径极紫外光刻机。
- 此举旨在提升半导体产品性能与生产效率，增加晶体管密度。
- SK海力士与商业伙伴紧密协作，提升全球供应链的可信度与稳定性。
- 自2021年起，SK海力士持续扩大极紫外光刻技术在尖端DRAM量产中的应用。
- 新设备TWINSCAN EXE:5200B可实现晶体管刻蚀小1.7倍，晶体管密度提升2.9倍。
- SK海力士计划简化光刻工艺，加速下一代存储器开发，巩固市场地位。
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