Utilizing the Mean Teacher Model with Contrastive Loss for Wafer Pattern Recognition
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内容提要
本研究提出了一种结合均值教师模型与监督对比损失的方法,以提高半导体制造中晶圆图案识别的精度。实验结果表明,该方法在准确率、精确率、召回率和F1分数上均显著提升,具有实际应用潜力。
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关键要点
- 本研究提出了一种结合均值教师模型与监督对比损失的方法,以提高晶圆图案识别的精度。
- 该方法旨在解决半导体制造中晶圆图案识别的挑战,尤其是标注数据不足的问题。
- 实验结果显示,该方法在准确率、精确率、召回率和F1分数上均显著提升。
- 研究结果表明,该方法具有实际应用潜力。
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