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利用均值教师模型与对比损失进行晶圆图案识别
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内容提要
本研究提出了一种结合均值教师框架与监督对比学习损失的方法，以提高半导体制造中晶圆图案识别的精度，解决标注数据不足的问题。实验结果表明，该方法在各项指标上均显著提升。
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关键要点
- 本研究针对半导体制造中晶圆图案识别的挑战。
- 提出了一种结合均值教师框架和监督对比学习损失的创新方法。
- 该方法旨在提高识别精度并应对标注数据不足的问题。
- 实验结果显示，所提方法在准确率、精确率、召回率和F1分数上均有显著提升。
- 研究结果显示了该方法在实际应用中的潜在影响。
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