MetaOptics宣布将在斯坦福大学nano@stanford设施部署超透镜直写式激光光刻系统，该系统专为4英寸玻璃晶圆设计，具备100nm精度，可快速制造超透镜样品并支持小批量生产，适用于共封装光学、高速互连及成像等领域。nano@stanford将管理该系统并向其成员开放使用。

日本科学家发明了一种大道至简的EUV光刻技术，通过简化工具解决了光学像差和光传输的挑战，降低了芯片生产成本。新系统只使用两个反射镜，能够让超过10%的初始EUV能量到达晶圆，功耗大幅降低，不需要复杂的冷却系统。该技术已通过光学模拟软件验证，并已申请专利。日本冲绳科学技术大学院大学认为这是解决全球挑战的重要一步。

本文探讨了基于水平集的逆向光刻技术在深度学习框架下的应用，提出了高效的掩膜优化方案，显著提升了印刷性能并减少了计算时间。同时，研究了机器学习在光刻中的应用，推动了光刻技术的进步。

本研究利用元表面技术对薄膜光学进行光学特性的灵活操控，提出了一种替代优化框架来开发适用于天文高对比度成像的两种旋涡相位面具。通过计算智能技术进行优化，有效地将所需的模拟次数减少了 75%。