Imec首次在300毫米晶圆上成功应用EUV光刻技术制造固态纳米孔,解决了变异性和集成问题。该技术可用于生物传感和基因组学,纳米孔尺寸可达10纳米,未来有望实现更小孔径。
前沿半导体光学公司MetaOptics在桃园部署直写式激光光刻系统,推动超透镜设计与制造,助力半导体供应链。该基地将成为生产与合作的中心,MetaOptics计划增设设备以提升产能,并探索进入美国市场,预计2025财年营收将显著增长。
本研究利用超导数字技术和先进光刻,克服了计算系统在内存和互连方面的限制,显著降低了能耗并提升了性能。实验结果显示,该技术在大语言模型的训练和推理中具有明显优势。
台积电与NVIDIA合作使用cuLitho平台加速半导体制造。NVIDIA的GPU系统显著提升计算光刻的效率,降低成本和能耗。生成式AI进一步加快光刻过程,提高精度和速度,使复杂计算如逆向光刻成为可能,加速新一代芯片开发。
日本科学家发明了一种大道至简的EUV光刻技术,通过简化工具解决了光学像差和光传输的挑战,降低了芯片生产成本。新系统只使用两个反射镜,能够让超过10%的初始EUV能量到达晶圆,功耗大幅降低,不需要复杂的冷却系统。该技术已通过光学模拟软件验证,并已申请专利。日本冲绳科学技术大学院大学认为这是解决全球挑战的重要一步。
DeeSIL是一种增量学习算法,使用深度表示的特征提取器和独立的浅层分类器来增加识别容量。在ImageNet LSVRC 2012数据集上表现更好。
本研究利用元表面技术对薄膜光学进行光学特性的灵活操控,提出了一种替代优化框架来开发适用于天文高对比度成像的两种旋涡相位面具。通过计算智能技术进行优化,有效地将所需的模拟次数减少了 75%。
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